KRI 離子源 EH1025F

產品說明:

  1. 模組化的設計,隨插即用。容易維護,體積縮小30%。
  2. 低溫製程。

特色:

  1. 增加鍍膜接著
  2. 控制度模組成結構
  3. 降低鍍膜吸收及散射
  4. 增加薄膜硬度及耐磨性
  5. 增加鍍膜密度
  6. 增加折射率
  7. 鍍膜介面平整化
  8. 控制鍍膜應力

應用:

離子輔助鍍膜、清潔、蝕刻

其他系列:

中和式離子源 EH1025HC

Copyright © 2017. 龍翩真空科技股份有限公司. All rights reserved.#
台中市梧棲區大通路2號(中港加工出口區)
客服中心E-mail: service@lp-vacuum.com.tw
業務諮詢E-mail: sale@lp-vacuum.com.tw

LP QRCode

瀏覽人次瀏覽人次67684